De acuerdo con el medio surcoreano Seoul Economic Daily, Samsung habría encargado cerca de 20 equipos de litografía EUV (ultravioleta extremo) para la primera fase de su planta P5 en Pyeongtaek, dentro de una orden total de unas 70 herramientas de litografía entre sistemas EUV y DUV. La operación superaría los USD 6,6 mil millones (10 billones de won) y apunta a reforzar la capacidad de memoria avanzada.
P5 con los nuevos dispositivos de ASML se perfila como la siguiente base de expansión de memoria de Samsung
El reporte indica que Samsung emitió órdenes a ASML y Canon para abastecer la fase 1 de P5. Dentro de ese paquete, los equipos EUV se destinarían a elevelevar laducción en DRAM 1c, el nodo de sexta generación de clase 10 nm que la compañía utiliza como base para HBM4.
La lectura central no está en el volumen bruto de máquinas, sino en para qué las quiere Samsung, ya el objetivo del gigante tecnológico es ampliar simultáneamente DRAM 1c y HBM4 en una etapa en que la demanda por memoria de alto ancho de banda sigue creciendo con las plataformas de IA.
La instalación de herramientas se alinea con el calendario de la sala limpia de P5
El medio señala que la sala limpia de la fase 1 de P5 debería estar lista en el 1T del próximo año. Con tiempos de despacho cercanos a 1 año, la instalación de equipos comenzaría desde el 2T y el aumento de capacidad podría sentirse durante el 1S.
El mismo reporte añade que Samsung ya está ampliando producción de HBM4 en Hwaseong H3 Line 17 y en Pyeongtaek P3 y P4. P5 aparecería así como el siguiente escalón fab para sostener el crecimiento de su negocio de memoria avanzada, más que como una expansión aislada.
También se menciona que Samsung opera hoy alrededor de 40 equipos EUV y que la nueva compra mantendría esa ventaja de infraestructura frente a sus rivales directos. En términos técnicos, eso le da más margen para empujar DRAM 1c ahora y preparar el terreno para DRAM 1d más adelante.
